山西射頻離子源價(jià)格

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專(zhuān)門(mén)的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的較da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數量的上限da致是多少。8、室內空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機的主要應用。山西射頻離子源價(jià)格

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實(shí)現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個(gè)適當的電極間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片，它可以使某些真空系統免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。陜西光學(xué)薄膜射頻離子源真空鍍膜機的操作視頻。

【真空鍍膜的分類(lèi)】真空鍍膜的鍍層結構一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據膜層的導電與否，可分為導電真空鍍膜（VM）和不導電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類(lèi)、NB類(lèi)、3C類(lèi)、汽配類(lèi)按鍵、裝飾框、按鍵RING類(lèi)飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導電，一般用在通訊類(lèi)、3C類(lèi)對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類(lèi)飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì )顯然變慢，當操作不當應拆去聯(lián)結水管，卸下電爐盤(pán)，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤(pán)，便可以重新開(kāi)機。

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問(wèn)題】①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運動(dòng)的線(xiàn)速度，它是卷繞機構的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見(jiàn)隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線(xiàn)速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線(xiàn)速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著(zhù)卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時(shí)會(huì )造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問(wèn)題。真空鍍膜機日常怎么維護？

【真空鍍膜機之卷繞式鍍膜機】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結構必須配置較da的排氣系統才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機組，使設備成本降低，并節約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機所有的結構外，必須有一個(gè)為了實(shí)現連續鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結構上又有單室和多室之分。真空鍍膜機廠(chǎng)家排名。廣東光學(xué)薄膜射頻離子源廠(chǎng)家

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【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿(mǎn)足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽(yáng)極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。山西射頻離子源價(jià)格

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